IWAKI易威奇半導體氣動泵的核心特點及優勢

IWAKI易威奇半導體(ti) 氣動泵：精密製造領域的流體(ti) 控製革新者！

IWAKI易威奇半導體(ti) 氣動泵是專(zhuan) 為(wei) 半導體(ti) 行業(ye) 設計的高精度流體(ti) 輸送設備，憑借其耐腐蝕性、高精度控製、無汙染設計及高效能特性，在化學液體(ti) 供藥、清洗和CMP（化學機械拋光）製程中表現出色，成為(wei) 半導體(ti) 製造領域的重要工具。本文將從(cong) 技術特點、應用場景及優(you) 勢三個(ge) 方麵展開分析：

一、核心技術突破：從(cong) 材料到結構的全麵創新

1、無金屬汙染設計：氟樹脂材料的應用

易威奇半導體(ti) 氣動泵的核心過流部件采用PTFE（聚四氟乙烯）與(yu) PFA（全氟烷氧基樹脂）材質，實現從(cong) 泵體(ti) 到閥門的全氟化設計。這種材料組合不僅(jin) 耐強酸強堿腐蝕，更通過無金屬接觸設計，將顆粒物產(chan) 生率降低至行業(ye) 的0.1μm以下。例如，FS係列泵在180℃高溫下仍能保持化學穩定性，適用於(yu) 氫氟酸、硫酸等高危化學品的輸送。

2、高速衝(chong) 程與(yu) 低脈動控製

FS係列泵的衝(chong) 程速度可達240次/分鍾（spm），較傳(chuan) 統泵提升30%效率。其內(nei) 置傳(chuan) 感器驅動係統通過電磁閥精準控製衝(chong) 程長度與(yu) 頻率，將脈動寬度壓縮至0.06MPa以下。這一特性在CMP（化學機械拋光）製程中尤為(wei) 關(guan) 鍵，可避免因流量波動導致的晶圓表麵劃痕。

3、模塊化維護與(yu) 智能控製

泵體(ti) 采用快拆式結構設計，更換開關(guan) 無需拆卸管路或螺栓，停機時間縮短至15分鍾以內(nei) 。內(nei) 置式傳(chuan) 感器支持PWM信號輸入，可與(yu) PLC或DCS係統無縫對接，實現流量遠程監控與(yu) 自適應調節。

4、寬溫度範圍與(yu) 高壓能力

液體(ti) 輸送溫度範圍可達5°C至180°C，吐出壓力高達45MPa，能夠適應多種工藝條件，包括高溫清洗和高壓供藥。

二、行業(ye) 應用：從(cong) 晶圓清洗到化學品供藥的全場景覆蓋

1、晶圓清洗與(yu) 蝕刻：在半導體(ti) 濕法清洗設備中，易威奇氣動泵需輸送高純度化學品（如SC1、SC2溶液）並精確控製流量。FS-N係列泵憑借0.7MPa的高壓輸出與(yu) 5-60℃的寬溫域適應性，可滿足單片清洗設備對高流速、低殘留的要求。其氟樹脂材質避免了金屬離子析出，確保晶圓表麵潔淨度達到ISO Class 1標準。

2、CMP製程的精密供藥：CMP工藝中，拋光液的濃度與(yu) 流量需精確至毫升級。CFD係列泵以8mL/stroke的微小吐出量與(yu) 0.05MPa的低壓設計，實現納米級拋光液的穩定供給。其低脈動特性可避免拋光墊表麵液膜厚度波動，提升晶圓全局平坦化效果。

3、化學品供藥係統的安全保障：在光刻膠、顯影液等高價(jia) 值化學品的輸送中，PDS-H115係列泵以12mL/shot的精準計量與(yu) 1.0MPa的高壓輸出，結合10,000mPa·s的高粘度適應能力，確保供藥係統的穩定性。其IP66防護等級與(yu) 防爆設計，適用於(yu) 光刻車間等高危環境。

三、為(wei) 何選擇IWAKI易威奇半導體(ti) 氣動泵？

1. 高可靠性：IWAKI易威奇作為(wei) 流體(ti) 控製設備製造商，其產(chan) 品經過嚴(yan) 格測試，能夠在惡劣工況下長期穩定運行。

2. 節能高效：氣動驅動方式無需電力，降低能耗，同時減少電火花風險，適用於(yu) 易燃易爆環境。

3. 廣泛適用性：泵體(ti) 可輸送低粘度至高粘度液體(ti) ，滿足半導體(ti) 製造中多種化學液體(ti) 的輸送需求。

4. 智能化控製：內(nei) 置式開關(guan) 通過傳(chuan) 感器驅動係統控製電磁閥，可輕鬆連接各種控製器，實現自動化生產(chan) 。

選擇IWAKI易威奇，就是選擇半導體(ti) 製造的“隱形守護者"。

IWAKI易威奇半導體(ti) 氣動泵以材料科學、流體(ti) 動力學與(yu) 智能控製的深度融合，重新定義(yi) 了半導體(ti) 製造中的流體(ti) 控製標準。從(cong) 晶圓廠的無塵車間到化學品供藥係統的核心環節，其技術突破不僅(jin) 提升了生產(chan) 效率與(yu) 良率，更推動了行業(ye) 向智能化、綠色化方向演進。未來，隨著AI與(yu) 物聯網技術的進一步滲透，易威奇將持續推動半導體(ti) 流體(ti) 控製領域的創新浪潮。